电子与光学

提高质量和产量。 减少开支。

 

挑战

完全污染控制对于提高工艺产量至关重要,并在质量和可靠性方面保持竞争力。但是,对于微电子和光学制造商来说,保持高标准和持续改进正成为一项挑战。

颗粒越来越细,需要越来越高的过滤类别才能捕获。与此同时,制造商正在将更多流程转移到清洁环境中。洁净室的规模正在扩大,以应对因此增加的占地面积需求。但是,更大的洁净室意味着更大的区域可以保持清洁 - 员工,设备和材料的移动,出入和出口更多。

产品也变得越来越复杂。而且 - 随着新兴市场洁净室的竞争加剧 - 失败的可能性比以往任何时候都低。

但也许微电子和光学制造商面临的最大挑战是能效。诸如建筑物能源性能指令(EPDB)等立法要求所有新的非公共建筑在2020年之前必须几乎为零能源。再加上到2025年能源价格预计会出现两位数增长,这对洁净室造成了前所未有的压力。运营商寻找降低能耗的新方法。

 

解决方案

MANN + HUMMEL的洁净室过滤可帮助您应对微电子或光学生产设施的运营挑战。

为了应对更微细的微粒威胁,我们可以对您的设施进行调查,并确定您所面临的污染物。然后,我们可以使用全系列的EPA,HEPA和ULPA过滤器直到U17,以应对威胁。这也得到了各种框架,外壳和终端插座的支持。

在质量保证方面,您不能在洁净室中冒任何风险。这就是为什么我们投资了最新的半自动化测试设备,可以测试所有相关的ISO和EN标准 - 以及更高标准。您可以选择三个级别的测试 - 从完全可追溯的数据报告到铁质的质量证书 - 或者请求您自己的自定义测试。

为了帮助您满足管理更大,更复杂的洁净室的需求,我们的褶皱机可以在各种高度,宽度和距离上打褶,以生成您需要的过滤器规格。它们也很快。因此,我们现在可以在多种过滤器尺寸,类型和效率方面提供业界领先的交付周期。并且通过新的褶皱定向将压降降低15-20%,您可以显着提高空气输送系统的能耗。